El gravat làser aconsegueix l'eliminació del material enfocant un feix làser d'alta energia per evaporar o fondre instantàniament la superfície del material.
El gravat làser és un mètode de processament que utilitza làser d'alta energia per actuar sobre la superfície d'un material, provocant canvis químics o físics, per tal d'aconseguir l'aprimament o la perforació del material. En el gravat làser, el raig làser generarà una densitat d'energia lumínica molt alta a través de la lent d'enfocament, fent que la superfície del material s'evapori o es fongui instantàniament, o fins i tot es vaporitzi, formant petits forats, depressions o estructures.
El gravat làser té avantatges com ara alta precisió, alta eficiència i alta qualitat, i es pot utilitzar per fabricar microestructures i dispositius de mida petita. En comparació amb els mètodes tradicionals de processament mecànic, el gravat làser pot aconseguir una major complexitat morfològica i una qualitat de processament més alta, complint totalment els requisits del processament a nivell de micròmetre.
El gravat làser s'utilitza àmpliament en la fabricació de microdispositius com ara microprocessadors, bioxips, dispositius de comunicació de fibra òptica, panells solars, així com en el processament de textures superficials, processament contra la falsificació, processament de motlles i altres camps.